Un equipo de científicos de la Universidad de Londres ha utilizado bajas temperaturas y lámparas ultravioletas para lograr dióxido de silicio, un componente vital en los microprocesadores modernos.
En la actualidad las empresas dedicadas a la fabricación de procesadores utiliza temperaturas de hasta 1.000 grados centígrados para trabajar con el material, pero esta nueva técnica trabaja en temperaturas “ambiente” (consideradas “frías” para los parámetros actuales de 1.000 grados) y por lo tanto requieren menos energía y recursos.
Y menores costos de desarrollo llevarán a microprocesadores mas baratos, por lo que se espera que esas bajas lleguen en el mediano plazo a los precios, así que esta es una buena noticia para los consumidores.
Esta nueva técnica utiliza lámparas que emiten una luz ultravioleta, y a una longitud de onda de 126 nanómetros (una millonésima parte de un metro), sostenida a una distancia de 30 centímetros del silicio. La luz emitida causa que las moléculas de oxígeno se separen, y esa disociación crea un átomo con una enorme cantidad de energía y otro con una cantidad muy pequeña. Los átomos con gran cantidad de energía son los que se utilizan para obtener el dióxido de silicio, y su capacidad de oxidación es tal que no hace falta ninguna temperatura especial. Operan a temperatura ambiente, y calentar el laboratorio unos pocos grados significaría oxidar sobremanera el silicio, arruinando la muestra, lo que da una idea del poder de esta técnica.
Sin embargo aún queda una cuestión por dilucidar, y esta es como lograr anular los defectos que las muestras creadas presentaban, ya que una de las virtudes de la técnica de alta temperatura es el anular por completo los defectos presentados por el silicio.