Według relacji opublikowanej 28 września 2026 r. Christophe Fouquet, szef ASML, miał stwierdzić, że tylko jedna firma produkuje te maszyny. Sformułowanie nie określa rodzaju urządzeń. Osobno ASML opisuje litografię EUV jako technologię unikalną dla firmy.
Co ASML mówi o litografii EUV
Litografia przenosi wzór układu scalonego na płytkę krzemową za pomocą światła. EUV, czyli litografia w skrajnym ultrafiolecie, wykorzystuje światło o długości fali 13,5 nanometra.
Według opisu ASML źródło tego światła działa dzięki kroplom roztopionej cyny. Słabszy impuls lasera spłaszcza kroplę, a mocniejszy ją odparowuje, wytwarzając plazmę. Proces powtarza się 50 000 razy na sekundę.
EUV i DUV wykorzystują różne długości fal
DUV, czyli litografia w głębokim ultrafiolecie, obejmuje między innymi dwa typy światła: ArF i KrF. ASML podaje dla nich różne długości fal. Są to wartości dotyczące światła, a nie rozmiaru węzła technologicznego układu.
| Rodzaj litografii | Długość fali światła |
| EUV | 13,5 nm |
| ArF DUV | 193 nm |
| KrF DUV | 248 nm |
Czego dotyczą chińskie prace nad litografią
Doniesienia o chińskich pracach dotyczą rozwoju i testowania urządzeń DUV. Maszyna zaawansowanej litografii DUV opracowywana przez Shanghai Yuliangsheng miała być testowana przez chińskich producentów układów, w tym SMIC.
Systemy EUV korzystają z wyspecjalizowanych dostawców
Systemy EUV ASML wykorzystują optykę ZEISS. Producent systemu i dostawca jego wyspecjalizowanych podzespołów to odrębne role w łańcuchu dostaw.
