Uma reportagem publicada em 28 de setembro de 2026 atribui ao CEO da ASML, Christophe Fouquet, a afirmação de que uma única empresa fabrica determinada categoria de máquinas. A categoria não é identificada. Em separado, a ASML descreve a litografia EUV como uma tecnologia única da empresa, e é a única fornecedora comercial de sistemas EUV.
O que a ASML descreve como único na tecnologia EUV
Litografia é o processo que projeta padrões de circuitos sobre wafers de silício usados na fabricação de chips. EUV significa ultravioleta extremo. A ASML informa que seus sistemas usam luz com comprimento de onda de 13,5 nanômetros (nm).
A fonte de luz EUV da empresa usa gotas de estanho fundido: um pulso de laser de baixa intensidade achata cada gota, e um pulso mais forte a vaporiza. Segundo a ASML, esse processo se repete 50 mil vezes por segundo.
EUV e DUV usam comprimentos de onda diferentes
DUV significa ultravioleta profundo. A tabela compara os comprimentos de onda da luz informados pela ASML para EUV e para dois tipos de DUV.
| Tipo de litografia | Comprimento de onda da luz |
| EUV | 13,5 nm |
| ArF DUV | 193 nm |
| KrF DUV | 248 nm |
Esses valores descrevem a luz usada na litografia; o nó de fabricação é outra característica do chip.
O que envolvem os esforços chineses de litografia noticiados
Os esforços chineses descritos em reportagens envolvem DUV. Uma máquina da Shanghai Yuliangsheng estaria em testes por fabricantes chineses de chips, incluindo a SMIC. DUV e EUV são categorias distintas de litografia.
Sistemas EUV dependem de uma rede especializada de fornecedores
As ópticas dos sistemas EUV da ASML são fornecidas pela ZEISS. A cadeia de produção também inclui o desenvolvimento de sistemas High-NA EUV, uma geração posterior da tecnologia: em dezembro de 2023, a ASML informou que enviou à Intel os primeiros módulos do seu primeiro sistema desse tipo.
