Op 28 september 2026 verscheen berichtgeving die ASML-topman Christophe Fouquet de uitspraak toeschreef dat één bedrijf zulke machines maakt. ASML beschrijft EUV-lithografie afzonderlijk als een technologie die uniek is voor het bedrijf.
Wat ASML uniek noemt aan EUV
Lithografie projecteert patronen op een siliciumwafer, de dunne schijf waarop chips worden gemaakt. EUV staat voor extreem ultraviolet: ASML geeft voor dit licht een golflengte van 13,5 nanometer (nm). Het bedrijf noemt EUV-lithografie uniek voor ASML.
De lichtbron maakt gebruik van vloeibare tindruppels van ongeveer 25 micrometer doorsnee. Een zwakke laserpuls maakt een druppel platter, waarna een sterkere puls die verdampt. Zo ontstaat plasma dat EUV-licht produceert. De cyclus herhaalt zich volgens ASML 50.000 keer per seconde.
EUV en DUV gebruiken verschillende golflengten
DUV staat voor diep ultraviolet. ASML noemt naast EUV twee DUV-typen: ArF en KrF. De getallen hieronder beschrijven de golflengte van het gebruikte licht; chipknooppunten zijn een andere maat.
| Type lithografie | Golflengte van het licht |
| EUV | 13,5 nm |
| ArF DUV | 193 nm |
| KrF DUV | 248 nm |
Waar gemelde Chinese lithografie-inspanningen over gaan
De Chinese machineontwikkeling waarover berichtgeving spreekt, betreft DUV-lithografie. Shanghai Yuliangsheng ontwikkelt een geavanceerd DUV-systeem dat volgens die berichtgeving door Chinese chipmakers, waaronder SMIC, wordt getest.
EUV-systemen steunen op een breder leveranciersnetwerk
ZEISS levert de optiek voor ASML’s EUV-systemen. Die samenwerking verbindt de Nederlandse machinefabrikant met een gespecialiseerde Duitse leverancier.
