Samsung Electronics und SK hynix erwogen laut einem Bericht vom 8. November 2026, Bestellungen für EUV-Lithografieanlagen von ASML vorzuziehen. ASML hatte am 14. Oktober prognostiziert, dass das geplante Angebot an Low-NA-EUV- und DUV-Immersionssystemen die Kundennachfrage 2027 und 2028 nicht vollständig decken werde. ASMLs Mitteilung nennt damit zwei Systemarten und beide Jahre.

ASMLs Prognose umfasst EUV und DUV

ASML führte steigende kurz- und mittelfristige Nachfrageprognosen seiner Kunden vor allem auf deren Einschätzung zum Umfang und zur Dauer der KI-Investitionen zurück. Christophe Fouquet, CEO von ASML, nannte diese Erwartungen als wesentlichen Treiber.

ASML führt steigende Kundenprognosen vor allem auf deren Erwartungen zu Umfang und Dauer der KI-Investitionen zurück.

Das Unternehmen hatte für 2027 eine Kapazitätssteigerung um 30 Prozent bei Low-NA-EUV- und DUV-Immersionssystemen kommuniziert. Für 2028 untersuchte ASML eine weitere Steigerung um 30 Prozent. Im Oktober erklärte das Unternehmen, zusätzliche Kapazität für 2028 über diesen Schritt hinaus zu prüfen.

Für 2026 erwartete ASML rund 65 Low-NA-EUV-Systeme. 2025 hatte das Unternehmen 44 ausgeliefert. Einige Kunden bekundeten laut ASML außerdem Interesse an Bestellungen für 2029 und 2030. Die Angaben zu Auslieferungen und Kundeninteresse finden sich im Transkript der Quartalskonferenz.

Was über die Bestellungen berichtet wurde

ChosunBiz berichtete, Samsung Electronics und SK hynix hätten angesichts langer Lieferzeiten erwogen, Bestelltermine für EUV-Anlagen vorzuziehen. Für beide Unternehmen beschrieb der Bericht Investitionen in einem Bereich von jeweils 10 bis 20 Billionen Won; diese Angabe bezog sich auf Investitionen, nicht auf bestätigte Bestellwerte.

ChosunBiz zufolge hatte SK hynix einen Kauf von EUV-Anlagen im Wert von rund 11,95 Billionen Won offengelegt. Als Lieferfrist nannte der Bericht den 31. Dezember 2027. NeoTeo hatte ASMLs Quartalszahlen und Kapazitätsausblick bereits in einer früheren Einordnung behandelt.

EUV im Zusammenhang mit fortgeschrittenem DRAM

EUV-Lithografie arbeitet mit Licht einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern und kann die Zahl der nötigen Mehrfachbelichtungen verringern. ChosunBiz schrieb unter Berufung auf TrendForce, SK hynix plane den Einsatz von EUV auf mehr als fünf Schichten seiner 1c-DRAM-Generation, zwei mehr als bei der Vorgängergeneration.

Samsung plante laut ChosunBiz, den Betrieb der Pyeongtaek Campus Line 5 (P5) 2028 aufzunehmen.