Le 8 novembre 2026, ChosunBiz rapportait que Samsung Electronics et SK hynix envisageaient d’avancer leurs commandes d’équipements EUV. Deux semaines plus tôt, ASML avait indiqué que son offre planifiée de systèmes Low-NA EUV et de lithographie DUV à immersion ne couvrirait pas toute la demande des clients en 2027 et 2028. Le communiqué trimestriel d’ASML porte sur ces deux familles de systèmes.
Les prévisions d’ASML couvrent deux familles d’équipements
La lithographie utilise la lumière pour imprimer les motifs des circuits sur les plaquettes de silicium. Dans son communiqué du 14 octobre, ASML prévoyait que la demande de ses clients dépasserait son offre planifiée en 2027 et 2028, à la fois pour les systèmes Low-NA EUV et pour ceux à immersion DUV. L’entreprise reliait principalement la hausse des prévisions d’achat à la façon dont ses clients évaluent l’ampleur et la durée des investissements dans l’intelligence artificielle.
ASML avait précédemment communiqué une hausse de capacité de 30 % en 2027 pour les systèmes Low-NA EUV et DUV à immersion. Une hausse supplémentaire de 30 % en 2028 était à l’étude. En octobre, ASML indiquait examiner une capacité pour 2028 supérieure à ce niveau. Il s’agit de projets de capacité, tandis que la demande supérieure à l’offre reste une prévision de l’entreprise.
ASML anticipait aussi environ 65 systèmes Low-NA EUV en 2026, après en avoir livré 44 en 2025, selon la transcription de son appel trimestriel. NeoTeo a déjà présenté les perspectives d’offre d’ASML dans son article consacré à ses résultats et prévisions.
La prévision d’ASML porte sur l’offre planifiée de systèmes Low-NA EUV et DUV à immersion, avec une demande qui lui serait supérieure en 2027 et 2028.
Les commandes que Samsung et SK hynix envisageraient
ChosunBiz rapporte que les deux fabricants sud-coréens étudiaient un calendrier plus précoce pour leurs commandes EUV. La publication fait également état d’une commande d’équipements EUV de SK hynix évaluée à environ 11 950 milliards de wons, avec une échéance de livraison au 31 décembre 2027.
Ces informations situent les discussions d’achat dans le contexte de la prévision générale d’ASML. Celle-ci concerne la demande de l’ensemble de ses clients; elle ne précise pas la part qui reviendrait à Samsung Electronics ou à SK hynix.
Les projets de DRAM donnent un contexte à la demande
La lithographie EUV utilise une lumière d’une longueur d’onde de 13,5 nanomètres et peut réduire le recours à plusieurs expositions pour former les motifs d’un circuit. Pour la DRAM 1c de SK hynix, TrendForce, cité par ChosunBiz, estimait que l’entreprise prévoyait d’utiliser l’EUV sur plus de cinq couches, soit deux de plus que dans la génération précédente.
ChosunBiz rapportait aussi que Samsung visait une mise en service de son usine P5 à Pyeongtaek en 2028.
