ChosunBiz informó el 8 de noviembre de 2026 de que Samsung Electronics y SK hynix estudiaban adelantar pedidos de equipos EUV. El 14 de octubre, ASML había previsto que su suministro planificado de sistemas Low-NA EUV y de inmersión DUV no cubriría toda la demanda en 2027 y 2028, según su comunicado de resultados.
Qué prevé ASML para 2027 y 2028
La previsión de ASML abarca dos tipos de equipos: sistemas de litografía EUV de baja apertura numérica (Low-NA EUV) y sistemas DUV de inmersión. La compañía relacionó el aumento de las previsiones de demanda de sus clientes con sus expectativas sobre la escala y la duración de las inversiones en inteligencia artificial.
La previsión de ASML describe la relación entre su capacidad planificada y la demanda de sus clientes; el posible adelanto de pedidos es una decisión de compra que ChosunBiz atribuyó a Samsung Electronics y SK hynix.
ASML había comunicado un aumento de capacidad del 30 % para 2027 en Low-NA EUV y DUV de inmersión, y estudiaba otro 30 % para 2028. En octubre dijo que investigaba opciones para elevar la capacidad de 2028 por encima de ese nivel. Son planes de capacidad, no producción ya alcanzada.
En la llamada sobre sus resultados del tercer trimestre, ASML anticipó alrededor de 65 sistemas Low-NA EUV para 2026, frente a los 44 que había enviado en 2025. La cifra de 2026 era una previsión. NeoTeo ya había tratado la perspectiva de suministro de ASML en su cobertura anterior.
La compra de SK hynix que se ha reportado
ChosunBiz informó de que SK hynix había divulgado una compra de equipos EUV por unos 11,95 billones de wones, con fecha límite de entrega el 31 de diciembre de 2027. El medio también atribuyó a Samsung Electronics y SK hynix posibles inversiones en equipos de entre 10 y 20 billones de wones para cada empresa, sin precisar cuánto correspondía a pedidos ejecutados.
El papel de EUV en la DRAM avanzada
La litografía EUV utiliza luz con una longitud de onda de 13,5 nanómetros y puede reducir la necesidad de exposiciones de multipatronado. TrendForce, citado por ChosunBiz, estimó que SK hynix planeaba usar EUV en más de cinco capas de su DRAM 1c, dos más que en la generación anterior.
ChosunBiz también situó la demanda de equipos de Samsung en el contexto de la línea P5 de su campus de Pyeongtaek, cuyo inicio de operaciones tenía 2028 como objetivo. En paralelo, ASML dijo que algunos clientes habían expresado interés en hacer pedidos para 2029 y 2030.
