Een bericht dat op 15 september verscheen, meldde dat ASML's bestaande EUV-capaciteit tot eind 2027 bijna volgeboekt was. Hetzelfde bericht meldde dat klanten ASML vroegen om meer systemen en snellere leveringen. ASML koppelt de vraag naar geavanceerde chips aan investeringen in AI en zet plannen uiteen om de capaciteit voor low-NA-EUV-systemen te vergroten.
ASML's EUV-capaciteit tot eind 2027
De melding over de bijna volgeboekte capaciteit schetst de vraagdruk rond ASML's EUV-systemen. Het verzoek om meer systemen en snellere leveringen past bij die druk, maar is eveneens als gemelde klantvraag beschreven.
Wat ASML plant voor low-NA-EUV
In de kwartaalresultaten die ASML op 15 juli publiceerde, raamde het bedrijf zijn low-NA-EUV-capaciteit voor 2026 op ongeveer 65 systemen. ASML plant voor 2027 een verhoging van die capaciteit met 30 procent. Voor 2028 onderzoekt het bedrijf nog een extra verhoging van 30 procent.
Low-NA-EUV is een categorie lithografiesystemen die extreem ultraviolet licht gebruikt bij de productie van chipstructuren. De systemen zijn onderdeel van de apparatuur waarmee chipfabrikanten patronen voor geïntegreerde schakelingen maken.
Hoe AI-vraag doorwerkt in EUV
ASML zei op 15 juli dat investeringen in AI en de verdere ontwikkeling van AI-technologie de vraag naar geavanceerde logica- en geheugenchips aanjagen. Volgens het bedrijf versnellen klanten hun plannen om productiecapaciteit uit te breiden.
Wanneer chipfabrikanten hun capaciteit uitbreiden, groeit ook de behoefte aan apparatuur voor chipproductie. Zo werkt de vraag naar geavanceerde chips door naar lithografiesystemen zoals die van ASML.
