Um relato publicado em 15 de setembro descreveu os sistemas EUV existentes da ASML como quase esgotados até o fim de 2027. Clientes também teriam pedido à empresa mais sistemas e entregas mais rápidas. Em seus resultados trimestrais, a ASML relacionou a demanda por chips avançados aos investimentos em inteligência artificial e apresentou planos para ampliar a capacidade low-NA.
O que se relata sobre a capacidade até 2027
A capacidade dos sistemas EUV existentes da ASML estaria quase toda comprometida até o fim de 2027, segundo um relato publicado em 15 de setembro. Clientes também teriam solicitado mais sistemas e prazos de entrega mais rápidos.
O plano da ASML para ampliar a capacidade low-NA
Nos resultados do segundo trimestre de 2026, publicados em 15 de julho, a ASML informou que planejava uma capacidade de aproximadamente 65 sistemas low-NA EUV naquele ano. A empresa planeja aumentar essa capacidade em 30% em 2027. Para 2028, está estudando outro aumento de 30%.
Low-NA EUV é uma categoria de sistemas de litografia por ultravioleta extremo, usados para produzir padrões nos circuitos integrados. O aumento de 2027 faz parte do plano da empresa; o de 2028 segue em estudo.
Por que a demanda por IA afeta a litografia
A ASML atribui à continuidade dos investimentos em IA e aos avanços nessa área o aumento da demanda por chips avançados de lógica e memória. A empresa também diz que seus clientes estão acelerando os planos de expansão de capacidade.
A conexão com a litografia está na fabricação: os sistemas EUV ajudam a formar os padrões dos circuitos em chips avançados. Assim, quando os fabricantes ampliam a capacidade para atender à demanda por esses chips, a procura por equipamentos de litografia também ganha força.
