Ein am 28. September 2026 veröffentlichter Bericht schrieb ASML-Chef Christophe Fouquet die Aussage zu, nur ein Unternehmen stelle die gemeinten Maschinen her. ASML ist der einzige kommerzielle Anbieter von EUV-Lithografiesystemen und bezeichnet die Technologie als einzigartig für das Unternehmen.
Was über Fouquets Aussage berichtet wurde
Die zugeschriebene Formulierung nennt keine Maschinenart.
Was ASML an der EUV-Lithografie als einzigartig beschreibt
EUV steht für extremes Ultraviolett, DUV für tiefes Ultraviolett. Lithografie überträgt mithilfe von Licht Muster auf Siliziumwafer. ASML gibt die Wellenlänge des EUV-Lichts mit 13,5 Nanometern an.
Für die EUV-Lichtquelle werden winzige Zinntropfen zunächst durch einen schwachen Laserpuls abgeflacht und anschliessend mit einem stärkeren Puls verdampft. Dabei entsteht Plasma, das EUV-Licht abgibt. ASML zufolge wiederholt sich dieser Prozess 50.000-mal pro Sekunde.
EUV und DUV haben unterschiedliche Wellenlängen
Die Nanometerwerte bezeichnen die Wellenlänge des Lichts. Sie sind keine Angaben zur Strukturgrösse eines Chips.
| Lithografieart | Lichtwellenlänge |
| EUV | 13,5 nm |
| DUV (ArF) | 193 nm |
| DUV (KrF) | 248 nm |
Berichtete chinesische Anlagen nutzen DUV
Berichten zufolge wird eine von Shanghai Yuliangsheng entwickelte DUV-Anlage von chinesischen Chipunternehmen, darunter SMIC, erprobt. Die berichteten Bemühungen betreffen damit DUV-Lithografie.
EUV-Systeme stützen sich auf spezialisierte Zulieferer
ZEISS liefert die Optik für ASMLs EUV-Systeme. ASMLs besondere Stellung als EUV-Systemanbieter bedeutet nicht, dass das Unternehmen sämtliche Komponenten selbst fertigt.
