Il 28 settembre 2026 è stata riportata una dichiarazione attribuita a Christophe Fouquet, CEO di ASML, secondo cui una sola azienda produce quelle macchine. Separatamente, ASML descrive la litografia EUV come una tecnologia unica dell’azienda.
Che cosa è stato riportato sulla dichiarazione di Christophe Fouquet
La dichiarazione attribuita a Fouquet afferma che una sola azienda produce le macchine in questione. La posizione di ASML sull’EUV è distinta: l’azienda definisce questa tecnologia unica nel proprio ambito.
Che cosa descrive ASML come unico nell’EUV
La litografia trasferisce schemi di circuiti su wafer di silicio usando la luce. EUV significa ultravioletto estremo: per questa tecnologia ASML indica una lunghezza d’onda di 13,5 nanometri. Per i sistemi litografici EUV commerciali, ASML è l’unico fornitore.
La luce EUV viene generata con plasma prodotto da laser e gocce di stagno fuso. Un impulso meno intenso appiattisce una goccia, poi un impulso più forte la vaporizza. Il ciclo delle gocce si ripete 50.000 volte al secondo.
EUV e DUV usano lunghezze d’onda diverse
DUV significa ultravioletto profondo. Le lunghezze d’onda indicate da ASML sono 193 nanometri per ArF DUV e 248 nanometri per KrF DUV. Questi valori descrivono la luce impiegata nella litografia; il nodo di processo è invece una classificazione del chip.
| Tipo di litografia | Lunghezza d’onda della luce |
| EUV | 13,5 nm |
| ArF DUV | 193 nm |
| KrF DUV | 248 nm |
Che cosa riguardano gli sforzi cinesi riportati
Le iniziative cinesi citate riguardano apparecchiature DUV. Un sistema di Shanghai Yuliangsheng è stato descritto come in fase di test presso produttori di chip, tra cui SMIC. Si tratta di sviluppo e test di litografia DUV.
Perché i sistemi EUV dipendono da una rete di fornitori
I sistemi EUV si appoggiano a una filiera specializzata che comprende ZEISS, fornitore delle ottiche impiegate nelle macchine di ASML.
