El 28 de septiembre de 2026 se difundió que Christophe Fouquet, consejero delegado de ASML, había afirmado que una sola empresa fabrica ciertas máquinas. Por separado, ASML describe la litografía EUV como una tecnología única de la compañía.
Qué describe ASML como único en EUV
La litografía proyecta patrones de circuitos sobre obleas de silicio para fabricar chips. EUV son las siglas en inglés de ultravioleta extremo. ASML presenta la litografía EUV como una tecnología única de la empresa y señala que emplea luz con una longitud de onda de 13,5 nanómetros.
ASML explica que genera esa luz mediante plasma producido con láser y gotas de estaño fundido. Un pulso de baja intensidad aplana cada gota y otro más potente la vaporiza. El ciclo se repite 50.000 veces por segundo.
EUV y DUV emplean longitudes de onda distintas
DUV significa ultravioleta profundo. ASML identifica las longitudes de onda de la luz para EUV y para dos tipos de DUV: ArF y KrF. Estas cifras describen la longitud de onda, una propiedad distinta del nodo de fabricación.
| Tipo de litografía | Longitud de onda de la luz |
| EUV | 13,5 nm |
| DUV ArF | 193 nm |
| DUV KrF | 248 nm |
Los esfuerzos chinos reportados corresponden a DUV
En China, se informó del desarrollo de un equipo avanzado DUV de Shanghai Yuliangsheng y de pruebas por parte de fabricantes de chips, entre ellos SMIC.
ZEISS suministra la óptica de los sistemas EUV de ASML
ZEISS suministra la óptica de los sistemas EUV de ASML, un ejemplo de la participación de especialistas externos en la fabricación de estos equipos.
