Le 28 septembre 2026, une déclaration attribuée à Christophe Fouquet, directeur général d’ASML, a été rapportée : une seule entreprise fabriquerait les machines évoquées. Dans sa documentation technique, ASML présente séparément la lithographie EUV — l’ultraviolet extrême — comme une technologie entièrement propre à l’entreprise.
Ce qu’ASML décrit comme unique dans l’EUV
La lithographie projette des motifs de circuits sur une plaquette de silicium. EUV désigne l’ultraviolet extrême ; DUV, l’ultraviolet profond. ASML indique que sa lumière EUV a une longueur d’onde de 13,5 nanomètres.
Pour produire cette lumière, des gouttes d’étain fondu sont aplaties par une impulsion laser de faible intensité, puis vaporisées par une impulsion plus puissante. Ce processus se répète 50 000 fois par seconde.
L’EUV et le DUV utilisent des longueurs d’onde différentes
Les valeurs ci-dessous décrivent la longueur d’onde de la lumière employée, pas la dimension d’un nœud de fabrication.
| Type de lithographie | Longueur d’onde de la lumière |
| EUV | 13,5 nm |
| ArF DUV | 193 nm |
| KrF DUV | 248 nm |
Ce que recouvrent les efforts chinois rapportés
Les efforts chinois évoqués concernent le DUV : une machine développée par Shanghai Yuliangsheng ferait l’objet d’essais chez SMIC. Il s’agit de lithographie DUV, distincte de l’EUV.
Pourquoi les systèmes EUV reposent sur un réseau de fournisseurs
Les systèmes EUV d’ASML font aussi appel aux optiques de ZEISS. Leur fabrication mobilise donc des compétences fournies par plusieurs entreprises, et pas seulement par ASML.
