Op 8 oktober 2026 kwam naar buiten dat een peer-reviewed paper van ingenieurs van ASML en Carl Zeiss Hyper-NA beschrijft als mogelijke opvolger van High-NA EUV. De paper noemt een mogelijke gereedheid over ongeveer tien jaar. ASML zou de ontwikkeling zijn gestart, maar heeft niet toegezegd de machine te produceren.
Hyper-NA als mogelijke opvolger van High-NA
EUV-lithografie projecteert circuitpatronen op een siliciumwafer: een dunne schijf waarop chips worden gemaakt. High-NA is een bestaande generatie van die technologie; Hyper-NA is het voorgestelde vervolg. De paper van ingenieurs van ASML en Carl Zeiss schetst een mogelijke gereedheid over ongeveer tien jaar.
Dat is een vooruitzicht voor een mogelijke technologieontwikkeling, geen vastgelegde leverdatum. ASML zou aan de ontwikkeling zijn begonnen, maar heeft zich niet vastgelegd op productie.
Het gemelde potentieel van 5 nm
Volgens de paper zou Hyper-NA structuren tot 5 nanometer kunnen printen. Dat is volgens de gemelde vergelijking meer dan een derde kleiner dan structuren die met het huidige High-NA-systeem kunnen worden geprint. Het gaat om een mogelijke capaciteit van het voorgestelde systeem, niet om een aangetoonde productieprestatie.
Een nanometer is een miljardste meter. Bij chipfabricage worden patronen met lithografie op een wafer overgebracht; de genoemde 5 nm is de potentiële grootte van zulke structuren.
Wat de technologie mogelijk kan hergebruiken
De paper schrijft dat Carl Zeiss spiegels met voldoende precisie kan maken voor Hyper-NA. Ook zou de bestaande lichtbron van ASML kunnen worden hergebruikt. Dat wijst op een ontwerp dat onderdelen van de huidige EUV-technologie benut, terwijl de auteurs nog technische uitdagingen noemen.
Bij EUV-lithografie projecteert extreem ultraviolet licht circuitpatronen op een lichtgevoelige laag van de wafer. De EUV-systemen van ASML gebruiken licht met een golflengte van 13,5 nm en reflecterende optiek. Omdat lucht dit licht absorbeert, werkt het proces in een vacuüm.
Voor achtergrond over de huidige generatie: lees hoe Intel High-NA inzet op geselecteerde Panther Lake-lagen.
Ontwikkeling gestart, productie niet toegezegd
ASML zou de ontwikkeling van Hyper-NA hebben gestart, maar heeft niet toegezegd het systeem te bouwen. De paper beschrijft dus een technische mogelijkheid en een ontwikkeltraject, geen productieplan.
De auteurs verwachten dat systemen na Hyper-NA uiteindelijk licht met een kortere golflengte nodig hebben. Dat onderwerp valt volgens hen nog binnen het academisch onderzoek.
