8 października 2026 r. opisano wnioski z recenzowanego artykułu inżynierów ASML i Carl Zeiss: Hyper-NA, proponowana następczyni litografii High-NA EUV, mogłaby być gotowa za około dziesięć lat. ASML rozpoczęło jej rozwój, ale nie zobowiązało się do produkcji.
Hyper-NA jako możliwa następczyni High-NA
High-NA EUV to poprzednia generacja litografii ekstremalnego ultrafioletu (EUV), którą Intel stosuje na wybranych warstwach procesora Panther Lake. Więcej o tym zastosowaniu można przeczytać w tekście o High-NA w procesorach Panther Lake.
Hyper-NA miałaby rozwijać tę technologię, a nie zastępować ją zupełnie inną metodą. Przybliżony, dziesięcioletni horyzont opisuje możliwą gotowość systemu; nie określa terminu dostaw ani uruchomienia produkcji.
Jakie struktury mogłaby drukować Hyper-NA
Według opisywanego artykułu system mógłby drukować struktury o rozmiarze zaledwie 5 nm. W relacji o artykule wartość tę porównano z możliwościami obecnego High-NA: struktury Hyper-NA miałyby być o ponad jedną trzecią mniejsze. To potencjalna zdolność przypisywana projektowi, a nie wynik produkcyjny.
Nanometr to jedna miliardowa metra. W litografii chodzi o wzory obwodów przenoszone na wafel krzemowy, a nie o gotowy procesor o wymiarach kilku nanometrów.
Zwierciadła i źródło światła z obecnej technologii
Opisywany projekt zakłada wykorzystanie precyzyjnych zwierciadeł Carl Zeiss oraz obecnego źródła światła ASML. Według artykułu zwierciadła o wymaganej dokładności są już możliwe do wykonania, a źródło światła można byłoby ponownie wykorzystać. Jako alternatywę wspomniano laser na swobodnych elektronach; według przypisu w artykule nie wymagałby on zmiany projektu układu oświetlenia.
W litografii EUV światło i optyka refleksyjna przenoszą wzór obwodu na światłoczułą warstwę wafla. Systemy EUV ASML korzystają ze światła o długości fali 13,5 nm. Proces odbywa się w próżni, ponieważ takie światło jest pochłaniane przez powietrze.
Rozwój trwa, decyzji o produkcji nie ma
ASML rozpoczęło prace nad Hyper-NA, lecz nie zobowiązało się do wytwarzania maszyny. Inżynierowie wskazują też na pozostające wyzwania techniczne. Zgodnie z ich opisywaną perspektywą systemy powstające po Hyper-NA mogą w przyszłości wymagać światła o krótszej długości fali; ten kierunek pozostaje tematem badań akademickich.
