Um artigo revisado por pares assinado por engenheiros da ASML e da Carl Zeiss descreve a Hyper-NA como possível sucessora da litografia High-NA EUV e estima que ela poderia ficar pronta em cerca de dez anos. A proposta também aponta para estruturas de até 5 nm. A ASML teria iniciado o desenvolvimento, mas não se comprometeu a fabricar o sistema.
Hyper-NA como possível sucessora da High-NA
A Hyper-NA é uma proposta para a próxima geração de litografia ultravioleta extrema (EUV) da ASML, depois da High-NA. O horizonte de cerca de dez anos é uma possibilidade apresentada no artigo, não uma data de entrega definida.
A High-NA é a geração anterior. Ela já é usada em camadas selecionadas do Panther Lake; veja a cobertura da NeoTeo sobre o uso de High-NA no Panther Lake.
O potencial relatado de estruturas de 5 nm
O artigo atribui à Hyper-NA a possibilidade de imprimir estruturas de até 5 nm, mais de um terço menores que as imprimíveis pela High-NA atual. Trata-se de uma capacidade potencial descrita para o sistema proposto.
O que poderia ser reaproveitado na Hyper-NA
A proposta indica que a Carl Zeiss já conseguiria fabricar espelhos com a precisão necessária para a Hyper-NA. Também aponta que a fonte de luz atual da ASML poderia ser reutilizada.
Na litografia EUV, luz ultravioleta extrema de 13,5 nm projeta padrões sobre uma camada fotossensível na wafer de silício. Como o ar absorve essa luz, o processo ocorre no vácuo e usa óptica refletiva.
Desenvolvimento iniciado, fabricação sem compromisso
A ASML teria iniciado o desenvolvimento da Hyper-NA, mas não se comprometeu a produzir a máquina. Os autores também reconhecem que ainda há desafios técnicos a superar.
Para sistemas posteriores à Hyper-NA, os autores consideram que poderá ser necessário usar luz de comprimento de onda menor. Essa possibilidade continua como tema de pesquisa acadêmica.
