Una notizia pubblicata il 15 settembre riferiva che la capacità EUV esistente di ASML sarebbe quasi interamente prenotata fino alla fine del 2027. Secondo lo stesso resoconto, alcuni clienti chiedevano più sistemi e consegne più rapide.
Il piano di capacità low-NA di ASML
Nel comunicato sui risultati del secondo trimestre, pubblicato il 15 luglio 2026, ASML ha indicato una capacità di circa 65 sistemi low-NA EUV per il 2026 e ha pianificato un aumento del 30% nel 2027. L’azienda ha inoltre detto di valutare un ulteriore aumento del 30% per il 2028.
Perché la domanda di IA riguarda la litografia
ASML collega gli investimenti legati all’intelligenza artificiale e i progressi nelle tecnologie di IA alla crescita della domanda di chip avanzati di logica e memoria. L’azienda afferma inoltre che i clienti stanno accelerando i piani di espansione della capacità.
I sistemi EUV sono apparecchiature di litografia usate nella produzione dei modelli dei chip avanzati: quando i produttori ampliano la capacità per rispondere alla domanda di questi chip, aumenta anche la necessità di attrezzature per fabbricarli.
