Ein Bericht vom 15. September 2026 bezeichnete ASMLs bestehende EUV-Systeme als bis Ende 2027 nahezu ausgebucht. Dem Bericht zufolge fragten Kunden außerdem, ob ASML mehr Systeme und schneller liefern könne.
ASMLs EUV-Kapazität bis 2027
ASML plante für 2026 eine Kapazität von rund 65 Low-NA-EUV-Systemen. Für 2027 kündigte das Unternehmen einen Ausbau dieser Kapazität um 30 Prozent an. Die Systeme nutzen extrem ultraviolettes Licht (EUV), um feine Strukturen auf Wafer zu übertragen – ein Schritt in der Fertigung moderner Chips.
Was ASML für 2028 prüft
Für 2028 prüfte ASML nach eigenen Angaben eine weitere Erhöhung der Low-NA-EUV-Kapazität um 30 Prozent. Damit unterscheidet sich dieser mögliche Ausbau vom für 2027 geplanten Zuwachs: Die zusätzliche Steigerung für 2028 war noch Gegenstand einer Prüfung.
Warum KI die Nachfrage nach EUV-Anlagen antreibt
ASML führte die Nachfrage nach modernen Logik- und Speicherchips auf laufende KI-Investitionen und Fortschritte bei KI-Technologien zurück. Kunden beschleunigten zugleich ihre Pläne zum Ausbau eigener Kapazitäten. EUV-Anlagen sind Teil der Ausrüstung, mit der Chipproduzenten solche fortschrittlichen Strukturen fertigen.
